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消息称三星HBM3E和HBM4 DRAM良率提高

发布日期:2026-05-19 20:46:30   来源 : 新浪财经    作者 :世泽研报    浏览量 :6
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【消息称三星HBM3E和HBM4 DRAM良率提高】据媒体援引内部消息人士透露,三星电子DS部门最近将应用于HBM3E核心芯片的10纳米级第五代(1b)DRAM的良率提高到92%(基于冷态测试),并将安装在HBM4上的第六代(1c)DRAM的良率提高到75%以上。

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